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化学工学会 第83年会

Last modified: 2018-02-27 10:00:00

講演要旨は各講演番号からリンクしています。(要ID/PW)
閲覧に必要なID/PWは受付でお配りするプログラム集冊子の1ページに記載しているほか、
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講演プログラム一覧表 (第 2 日)

会場 第 2 日 (3月14日(水))
午前午後
第４学舎２,４号館
AB1F 4001 SS-6 海外留学生を対象とした企業と学生との交流会
A201-A204
9:00～12:30
B1F 4101 HC-11 女性技術者フォーラム
B213-B222
13:00～16:20
C1F 2101国際シンポジウム
K-4 水素製造に係わる触媒反応工学の最近の進歩 K-1 SCEJ-AIChE共催セッション "バイオセパレーションとバイオナノテクノロジー"
C202-C207
9:20～11:20		 C218-C225
14:55～17:20
D1F 2102 2 粒子・流体プロセス
D201-D224
9:00～17:00
E1F 2105 9 エネルギー
E201-E224
9:00～17:00
F2F 4201 SS-1 日本の産業を支える技術イノベーション 0-d 化学工学会技術賞 SS-2 開発型企業の産学官連携による成果報告 －医工連携とバイオ事業に挑む開発型企業－
F201-F207
9:00～11:40		 F212-F215
12:55～14:00		 F216-F223
14:10～17:00
G2F 4202 SS-3 化学関連産業の経営課題 －デジタル先進企業をめざして－
G217-G226
14:10～17:50
H2F 2201 1 基礎物性
H213-H217
13:00～14:40
I2F 2206 6 システム・情報・シミュレーション
I201-I217
9:00～14:40
J2F 2207 4 分離プロセス
J202-J224
9:20～17:00
K2F 2208 5 反応工学
K213-K222
13:00～16:20
L3F 2301 7 バイオ
L213-L224
13:00～17:00
M3F 2302 8 超臨界流体
M201-M222
9:00～16:20
N3F 2303 12 材料・界面
N202-N209
N221-N224
9:20～12:00,
15:40～17:00		 N202-N209
N221-N224
9:20～12:00,
15:40～17:00
O3F 2304 13 環境
O203-O224
9:40～17:00
P3F 4301一般講演分類・ポスター
PS-B ポスターセッションB 第2日 午前 (基礎物性, バイオ) PS-C ポスターセッションC 第2日 午後 (エレクトロニクス, 材料・界面, 広領域) ポスター表彰 (第4学舎3号館 3201)
PB201-PB284
9:20～11:20		 PC201-PC274
13:20～15:20		 17:00～17:40
BIGホール100 (第２学舎４号館)
XBIG ホール 100
凜風館
凜風館 懇親会
18:00～20:00

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化学工学会 第83年会

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