第 2 日 ・ D 会場 |
D209 | 「膜分離プロセスを用いたプロピレン/プロパン分離の省エネルギー性評価」 (11:40~ 12:00) |
| (日揮) ○小黒 秀一 氏・ 福田 晃子 氏・ 湯浅 敦 氏・ 藤村 靖 氏 |
D213 | 「エチレン・プロピレン分離用ゼオライト膜の開発」 (13:00~ 13:20) |
| (早大先進理工) ○酒井 求 氏・ 安田 訓之 氏・ (早大先進理工/早大理工研) 松方 正彦 氏 |
D214 | 「対向拡散CVD法によるシリカ系膜の水素/炭化水素分離」 (13:20~ 13:40) |
| (芝浦工大工) ○野村 幹弘 氏・ 石井 克典 氏・ 吉田 真奈美 氏 |
D215 | 「橋架けアルコキシドによるオルガノシリカ膜の細孔構造制御と炭化水素透過特性」 (13:40~ 14:00) |
| (広大院工) ○金指 正言 氏・ 米田 悠里 氏・ 長澤 寛規 氏・ 都留 稔了 氏 |
D216 | 「膜分離と蒸留のハイブリッド化によるプロピレン-プロパン分離の省エネルギー化」 (14:00~ 14:20) |
| (産総研) ○山木 雄大 氏・ 吉宗 美紀 氏・ 原 伸生 氏・ 根岸 秀之 氏・ 遠藤 明 氏・ (山形大院理工) 鈴木 健太 氏・ 松田 圭悟 氏 |
D218 | 「選択的ガス吸着特性を示す多孔性金属錯体(MOF)の空間設計」 (14:40~ 15:00) |
| (名大院工) ○松田 亮太郎 氏・ 堀 彰宏 氏 |
D219 | 「炭化水素分離に向けたMOF膜の開発」 (15:00~ 15:20) |
| (産総研) ○原 伸生 氏・ 吉宗 美紀 氏・ 山木 雄大 氏・ 長谷川 泰久 氏・ 根岸 秀之 氏 |
D220 | 「中空糸炭素膜による水素/低級炭化水素分離」 (15:20~ 15:40) |
| (産総研) ○吉宗 美紀 氏・ 原 伸生 氏・ 山木 雄大 氏・ 根岸 秀之 氏 |
第 2 日 ・ E 会場 |
E205 | 「Reaction Mechanism and Growth-rate Distribution in Metal-Organic Vapor-Phase Epitaxy of GaN」 (10:20~ 10:40) |
| (U. Tokyo) *Sugiyama Masakazu 氏, Momose Takeshi 氏, (Politecnico Di Milano) Ravasio Stefano 氏, Cavallotti Carlo 氏, (U. Tokyo) Shimogaki Yukihiro 氏 |
E206 | 「Plasma decomposition of hexamethyldisiloxane, oxygen, and ammonia for coating a polymer substrate with silica-based film」 (10:40~ 11:00) |
| (Kyoto U.) Kawase M. 氏 |
E207 | 「B-atom release from metal wires boronized by non-explosive boron compounds」 (11:00~ 11:20) |
| (Shizuoka U.) Umemoto Hironobu 氏 |
E208 | 「Surface reaction design for silicon epitaxial growth based on the reactor simulation」 (11:20~ 11:40) |
| (Yokohama Nat. U.) *Habuka Hitoshi 氏, Watanabe Toru 氏, Yamada Ayami 氏, Saito Ayumi 氏, Sakurai Ayumi 氏 |
E209 | 「CVD and ALD precursor candidates for transition metal film deposition」 (11:40~ 12:00) |
| (Gas-Phase Growth) Machida Hideaki 氏 |
E217 | 「Synthesis of carbon nitride using microwave plasma CVD」 (14:20~ 14:40) |
| (Gifu U.) *Tanaka Ippei 氏, (Chiba Inst. Tech.) Sakamoto Yukihiro 氏 |
E218 | 「PEALD-TiO2 films synthesized via CCRF discharges」 (14:40~ 15:00) |
| (Tokyo Electron Yamanashi) Iwashita Shinya 氏 |
E219 | 「Surface coating of carbon nanotubes by aerosol process with plasma enhanced chemical vapor deposition」 (15:00~ 15:20) |
| (Hiroshima U.) *Shimada Manabu 氏, Kubo Masaru 氏, (Hiroshima U./ITS Surabaya) Kusdianto K. 氏 |
E221 | 「Novel catalytic property of structured catalyst prepared by wet-type chemical deposition」 (15:40~ 16:00) |
| (Shizuoka U.) Fukuhara Choji 氏 |
E222 | 「Thin film deposition in supercritical fluids - impact of solvent capability on deposition characteristics」 (16:00~ 16:20) |
| (U. Yamanashi) Kondoh Eiichi 氏 |
E223 | 「Hot-filament CVD growth of low-resistivity diamond for power device applications」 (16:20~ 16:40) |
| (AIST) Ohmagari Shinya 氏 |
E224 | 「Effects of N2O Addition during the Growth of ZnO Films by Chemical Vapor Deposition Using a Catalytic Reaction」 (16:40~ 17:00) |
| (Nagaoka U. Tech.) Tajima Ryouichi 氏, Watanabe Koudai 氏, Ono Shotarou 氏, Kato Takahiro 氏, *Yasui Kanji 氏 |
E225 | 「Engineering Carbon Nanotube Synthesis: Catalyst Screening, Identification of Reactive Species, and Rational Reactor Design」 (17:00~ 17:20) |
| (Waseda U.) Noda Suguru 氏 |
第 2 日 ・ I 会場 |
I202 | 「腐食環境で用いる有機材料劣化の破壊検査・非破壊検査」 (9:20~ 9:40) |
| (東工大) ○久保内 昌敏 氏・ 荒尾 与史彦 氏・ (日大生産工) 酒井 哲也 氏 |
I203 | 「プラント建設プロジェクトにおける有機材料と試験・検査」 (9:40~ 10:00) |
| (日揮) 宮下 隼基 氏 |
I207 | 「ふっ素樹脂ライナーの透過試験(塩酸透過量測定)」 (11:00~ 11:20) |
| (ニチアス) 倉本 順之 氏 |
I208 | 「高温配管としてのAlloy 800H材の保全」 (11:20~ 11:40) |
| (千代田化工建設) 柴崎 敏和 氏・ ○渡邉 俊二 氏・ 外村 隆志 氏 |
第 2 日 ・ K 会場 |
K220 | 「水素精製・貯蔵システムのための水素吸蔵合金の高性能化」 (15:20~ 15:40) |
| (筑波大) 花田 信子 氏 |
K221 | 「木材構成成分の分離回収と有効利用」 (15:40~ 16:00) |
| (徳島大) 淺田 元子 氏 |
K222 | 「富士電機における燃料電池の開発状況について」 (16:00~ 16:40) |
| (富士電機) 田岸 未来子 氏 |