English page
SCEJ

化学工学会 第82年会 (東京 2017)

Last modified: 2017-02-20 10:00:00

講演要旨は講演番号からリンクしています。(要要旨閲覧ID/PW) 詳細

講演プログラム一覧表 (第 3 日)

会場 第 3 日 (3月8日(水))
午前午後
A教室棟 3階 301 SS-2 [産業セッション]
日本の産業を支える技術イノベーション－２		 SS-6 [産業セッション]
忘れてはいけない単位操作－環境にやさしい分離プロセス（蒸留・吸着・膜分離）－
A301-A308
9:00～12:00		 A316-A320
14:00～16:00
B教室棟 3階 302 SS-5 [産業セッション]
安全確保の取り組みと現場力の維持向上
B303-B320
9:40～15:40
C教室棟 3階 303 7 バイオ
C301-C309
9:00～12:00
D教室棟 3階 304 1 基礎物性 14 広領域 1 基礎物性
D301-D309
D321-D324
9:00～12:00,
15:40～17:00		 D313-D315
13:00～14:00		 D301-D309
D321-D324
9:00～12:00,
15:40～17:00
E教室棟 4階 404 12 材料・界面
E301-E324
9:00～17:00
F教室棟 4階 405 12 材料・界面
F301-F309
9:00～12:00
G教室棟 4階 406 5 反応工学
G301-G309
9:00～12:00
H教室棟 4階 407 2 粒子・流体プロセス
H301-H309
H321-H323
9:00～12:00,
15:40～16:40		 H301-H309
H321-H323
9:00～12:00,
15:40～16:40
I教室棟 5階 502
J教室棟 5階 503
K教室棟 5階 504
L交流棟 4階 401 9 エネルギー
L301-L321
9:00～16:00
M交流棟 4階 402 HC-13 [センター・委員会等企画]
2016年度インターンシップ報告会		 HC-14 [センター・委員会等企画]
インターンシップ報告会企業交流会		 HC-15 [センター・委員会等企画]
「プロフェッショナルは語る」～技士（基礎）・技士・上席技士の集い～		 インターンシップ報告会・「プロフェッショナルは語る」 合同交流会 (カフェテリア)
M301-M310
10:00～11:50		 12:00～12:50 M313-M316
13:00～14:45		 15:00～16:30
N交流棟 5階 501 4 分離プロセス ポスター表彰
N313-N318
13:00～15:00		 17:00～17:40
P交流棟 6階 ホワイエ PS-D ポスターセッションD 第3日 午前
(熱工学, 分離プロセス)		 PS-E ポスターセッションE 第3日 午後
(基礎物性, 粒子・流体, 反応工学)		 ポスター表彰 (N会場)
PD301-PD378
9:20～11:20		 PE301-PE390
13:20～15:20		 17:00～17:40
X教室棟 4階 403 HQ-21 [本部・支部等企画]
【若手】若手研究者が考える未来の化学工学研究（ポスター）
X300-X320
13:00～16:00
Y教室棟 1階 ラウンジ SP-8 [産業セッション（ポスター）]
ポスターセッション／安全確保の取り組みと現場力の維持向上
SP-9 [産業セッション（ポスター）]
ポスターセッション／忘れてはいけない単位操作－環境にやさしい分離プロセス（蒸留・吸着・膜分離）－
Y351-Y372
Y381-Y393
16:00～17:20
Z交流棟 6階 大講義室
交流棟 3階 カフェテリア インターンシップ報告会・「プロフェッショナルは語る」 合同交流会
15:00～16:30

講演発表プログラム
講演プログラム一覧(横長)  (同 縦長表示)
セッション一覧
講演プログラムの検索
化学工学会 第82年会 (東京 2017)

(C) 2023 公益社団法人化学工学会 The Society of Chemical Engineers, Japan. All rights reserved.
For more information contact 化学工学会 第82年会 実行委員会
E-mail: inquiry-82awww3.scej.org