English page
SCEJ

化学工学会 第82年会 (東京 2017)

Last modified: 2017-02-20 10:00:00

講演プログラム（会場・日程別） : E会場

講演要旨は講演番号からリンクしています。(要要旨閲覧ID/PW) 詳細

E 会場(教室棟 4階 404)

E 会場 ・ 第 1 日 | E 会場 ・ 第 2 日 | E 会場 ・ 第 3 日
12 | K-2 | 12

講演
時刻		講演
番号		講演題目／発表者キーワード分類
番号		受理
番号
E 会場(教室棟 4階 404) ・ 第 1 日(3月6日(月))
12. 材料・界面
(13:00～13:20) (司会 山口 猛央・神谷 秀博)
13:00～ 13:20E113[研究賞] 非平衡での時空間構造形成を利用した化学システムの創出に関する研究
(同志社大理工) (正)塩井 章久
The SCEJ Award for Outstanding Research Achievement
12-a534
(13:20～14:00) (座長 田中 秀樹・大柴 雄平)
13:20～ 13:40E114UV硬化型3Dプリンター:CLIPの造形シミュレーション
(金沢大自然) (正)瀧 健太郎
3D printer
photopolymerization
simulation
12-a11
13:40～ 14:00E115疎水性の高いチタノシリケートのミクロ孔内の局所的な親水場の評価
(横国大院工) ○(正)稲垣 怜史・ 金田 みどり・ (産総研) (正)遠藤 明・ (横国大院工) 窪田 好浩
titanosilicate
supermicropore
hydrophilicity
12-a22
(14:00～14:40) (座長 星野 友・長嶺 信輔)
14:00～ 14:20E116in-line光学測定を用いたSiO2@Auコアシェル粒子のシェル形成過程のメカニズム解明
(京大院工) ○(学·修習)大崎 修司・ (正·技基)細川 淳二・ (正)渡邉 哲・ (Erlangen U.) Braunschweig Bjoern・ Klupp Taylor Robin・ (京大院工) (正)宮原 稔
SiO2@Au core-shell particles
Shell formation mechanism
in-line optical measurement
12-a257
14:20～ 14:40E117規則シリカ多孔体が示す毛管凝縮挙動の速度論的モデリング
(京大工) ○(学·技基)平塚 龍将・ (正)田中 秀樹・ (正)宮原 稔
rate constant
transition state theory
molecular simulation
12-a430
(15:00～15:20) (司会 三浦 佳子・岸田 昌浩)
15:00～ 15:20E119[研究奨励賞] 生体分子認識を利用したバイオセパレーションおよびバイオセンシングマテリアルの開発
(福岡大工) (正)瀬戸 弘一
The SCEJ Award for Outstanding Young Researcher
12-a563
(15:20～16:00) (座長 瀧 健太郎・黒木 秀記)
15:20～ 15:40E120ベシクル膜デザインに基づく水溶媒中での有機合成プロセスの制御
(阪大院基工) ○(学)岩崎 文彦・ (正)菅 恵嗣・ (正)岡本 行広・ (正)馬越 大
membranome
membrane property
interfacial reaction
12-a607
15:40～ 16:00E121脂質分子集合体界面におけるクロロフィルaの凝集挙動の評価ならびに光エネルギー変換への応用
(阪大院基工) ○(学)田口 翔悟・ (正)菅 恵嗣・ (奈良高専) (正)林 啓太・ (阪大院基工) (正)岡本 行広・ (奈良高専) (正)中村 秀美・ (阪大院基工) (正)馬越 大
liposome
chlorophyll a
12-a635
(16:00～17:00) (座長 菅 恵嗣・田巻 孝敬)
16:00～ 16:20E122構造柔軟性の異なる配位錯体が示すゲート吸着挙動の自由エネルギー解析
(京大工) ○(学·技基)平出 翔太郎・ (学·技基)奥西 麻帆・ (正)田中 秀樹・ (農工大工) 近藤 篤・ 前田 和之・ (京大工) (正)宮原 稔
metal-organic framework
free energy analysis
gate adsorption
12-a661
16:20～ 16:40E123高分子ゲルモノリスによるフロー化学プロセスの開発
(九大院工) ○(正)三浦 佳子・ (学)松本 光・ (福岡大) (正)瀬戸 弘一・ (九大院工) (正)星野 友
Monolith
Gel
Organic Chemistry
12-a730
16:40～ 17:00E124タンパク質の脂質膜への蓄積に及ぼす膜揺らぎの影響
(岡山大院環生) ○(正)島内 寿徳・ (学)岡村 早百合・ (正)木村 幸敬
protein
accumulation
membrane undulation
12-a794
E 会場(教室棟 4階 404) ・ 第 2 日(3月7日(火))
K-2 [国際シンポジウム]
 CVDの反応工学： iCVDなどの新プロセス、応用展開と基礎的理解
(9:00～12:00) (Chair: Noda Suguru)
9:00～ 9:40E201[Invited lecture] Analysis and Design of CVD/ALD processes Based on Chemical Reaction Engineering
(U. Tokyo) (Ful)Shimogaki Yukihiro
Chemical Reaction Engineering
CVD
Process Design
K-2838
9:40～ 10:20E203[Invited lecture] Cat-CVD and Its Development to Various Fields
(JAIST) Matsumura Hideki
Thin Film Technology
Cat-CVD
Cat-doping
K-282
10:20～ 10:40E205[Requested talk] Reaction Mechanism and Growth-rate Distribution in Metal-Organic Vapor-Phase Epitaxy of GaN
(U. Tokyo) *(Ful)Sugiyama Masakazu, (Ful)Momose Takeshi, (Politecnico Di Milano) Ravasio Stefano, Cavallotti Carlo, (U. Tokyo) (Ful)Shimogaki Yukihiro
GaN
MOVPE
reaction mechanism
K-2324
10:40～ 11:00E206[Requested talk] Plasma decomposition of hexamethyldisiloxane, oxygen, and ammonia for coating a polymer substrate with silica-based film
(Kyoto U.) (Ful)Kawase M.
Plasma CVD
silica-based gas-barrier film
HMDSO
K-2740
11:00～ 11:20E207[Requested talk] B-atom release from metal wires boronized by non-explosive boron compounds
(Shizuoka U.) Umemoto Hironobu
chemical vapor deposition
hot wire
boron atoms
K-217
11:20～ 11:40E208[Requested talk] Surface reaction design for silicon epitaxial growth based on the reactor simulation
(Yokohama Nat. U.) *(Ful)Habuka Hitoshi, Watanabe Toru, Yamada Ayami, Saito Ayumi, Sakurai Ayumi
silicon epitaxial growth rate
trichlorosilane
silicon hydride
K-214
11:40～ 12:00E209[Requested talk] CVD and ALD precursor candidates for transition metal film deposition
(Gas-Phase Growth) Machida Hideaki
Transition metal film
Amidinate precursor
Ethyl derivatives
K-2157
(13:00～15:20) (Chair: Momose Takeshi)
13:00～ 13:40E213[The SCEJ Award for Outstanding Asian Researcher and Engineer] Vapor-phase deposition of functional polymer films and their applications
(KAIST) Im Sung Gap
initiated chemical vapor deposition
functional polymer films
electronic, separation, and biomedical applications
K-226
13:40～ 14:20E215[Invited lecture] Application of Cat-CVD technology to crystalline silicon solar cells
(JAIST) *Ohdaira Keisuke, Trinh Cham Thi, Oikawa Takafumi, Seto Junichi, Koyama Koichi, Matsumura Hideki
catalytic chemical vapor deposition
crystalline Si solar cell
passivation
K-285
14:20～ 14:40E217[Requested talk] Synthesis of carbon nitride using microwave plasma CVD
(Gifu U.) *Tanaka Ippei, (Chiba Inst. Tech.) Sakamoto Yukihiro
plasma
CVD
carbon nitride
K-2477
14:40～ 15:00E218[Requested talk] PEALD-TiO2 films synthesized via CCRF discharges
(Tokyo Electron Yamanashi) Iwashita Shinya
TiO2
PEALD
deposition
K-2217
15:00～ 15:20E219[Requested talk] Surface coating of carbon nanotubes by aerosol process with plasma enhanced chemical vapor deposition
(Hiroshima U.) *(Ful)Shimada Manabu, (Ful)Kubo Masaru, (Hiroshima U./ITS Surabaya) (Ful)Kusdianto K.
PECVD
carbon nanotube
dry coating process
K-2396
(15:40～17:20) (Chair: Machida Hideaki)
15:40～ 16:00E221[Requested talk] Novel catalytic property of structured catalyst prepared by wet-type chemical deposition
(Shizuoka U.) (Ful)Fukuhara Choji
Electroless plating
Structured catalyst
Hydrogen production
K-2198
16:00～ 16:20E222[Requested talk] Thin film deposition in supercritical fluids - impact of solvent capability on deposition characteristics
(U. Yamanashi) (Ful)Kondoh Eiichi
supercritical fluids
solvent capability
thin film deposition
K-2184
16:20～ 16:40E223[Requested talk] Hot-filament CVD growth of low-resistivity diamond for power device applications
(AIST) Ohmagari Shinya
hot-filament CVD
diamond
low-resistivity
K-2219
16:40～ 17:00E224[Requested talk] Effects of N2O Addition during the Growth of ZnO Films by Chemical Vapor Deposition Using a Catalytic Reaction
(Nagaoka U. Tech.) Tajima Ryouichi, Watanabe Koudai, Ono Shotarou, Kato Takahiro, *Yasui Kanji
chemical vapor deposition
catalytic reactions
ZnO films
K-2112
17:00～ 17:20E225[Requested talk] Engineering Carbon Nanotube Synthesis: Catalyst Screening, Identification of Reactive Species, and Rational Reactor Design
(Waseda U.) (Ful)Noda Suguru
carbon nanotubes
chemical vapor deposition
rational design and development
K-219
E 会場(教室棟 4階 404) ・ 第 3 日(3月8日(水))
12. 材料・界面
(9:00～10:20) (座長 車田 研一・岸田 宗己)
9:00～ 9:20E301モデルバイオ燃料としての脂肪酸の2成分系混合物の融液晶析
(兵庫県大院工) ○(正)山本 拓司・ (正)前田 光治・ (正)伊藤 和宏・ (正)福井 啓介・ (国環研) (正)倉持 秀敏
effective distribution factor
interfacial solute distribution theory
melt crystallization
12-g148
9:20～ 9:40E302LiNixCoyMnzO2多孔質正極材料の開発
(住友金属鉱山) ○(法)菅沼 慎介・ (法)林 徹太郎・ (法)相田 平・ (法)牛尾 亮三
cathode
battery
LNCMO
12-g197
9:40～ 10:00E303Cu粉へのAgコート処理とその特性
(住友金属鉱山) ○(法)山岡 尚樹・ (法)金子 勲
electroless plating
copper powder
Ag coating
12-g284
10:00～ 10:20E304ヒドラジン還元法によるNi粒子合成におけるエチレンアミン類の影響
(住友金属鉱山) ○(法)田中 宏幸・ (法)熊谷 友希・ (法)石井 潤志・ (法)村上 慎悟・ (法)松村 吉章・ (法)行延 雅也
nickel powder
hydrazine reduction
ethyleneamine
12-g406
(10:20～11:20) (座長 山本 拓司)
10:20～ 10:40E305塩化ストロンチウムを添加した塩化カルシウム6水塩融液の核化特性に及ぼす熱履歴の影響
(早大理工研) ○(正)渡邉 裕之・ (早大先進理工) (正)平沢 泉
Salt Hydrate
Nucleating Agent
Thermal History
12-g415
10:40～ 11:00E306塩化ナトリウムを用いた溶解度制御による医薬品原薬微結晶の生成
(田辺三菱製薬) ○(正)岸田 宗己・ (阪市大院工) (正)五十嵐 幸一・ (関西化学機械製作) (正)大嶋 寛
microcrystal
solubility control
additive
12-g446
11:00～ 11:20E307埋立層浸出水中のカルシウムイオンの晶析固定化の加速因子
(福島高専) ○(正)車田 研一・ 尾形 祐輔・ (ひめゆり総業) 山口 弘之・ 本郷 和広
acceleration factor
crystallization mobilization
landfill leachate
12-g506
(11:20～12:00) (座長 島内 寿徳・山岡 尚樹)
11:20～ 11:40E308半回分冷却法を用いたカリミョウバン晶析における溶質供給条件
(新潟大工) ○(正·修習)三上 貴司・ 海津 里佳・ (学)佐々木 数馬
Semi-batch cooling
Feeding policy
Monodisperse crystals
12-g550
11:40～ 12:00E309オイリングアウト現象を経由する系での結晶化の解析
(農工大院工) ○(正)滝山 博志・ (学)奥出 藍・ (正)工藤 翔慈
Crystallization
Oiling-out
Phase separation
12-g581
(13:00～14:00) (座長 三上 貴司・田中 宏幸)
13:00～ 13:20E313臨界過飽和比による医薬品の結晶化難度の評価
(塩野義製薬) ○(法)永松 大樹・ (法)佐藤 準人・ (農工大院工) (正)滝山 博志
Crystallization difficulty
Critical Supersaturation
Pharmaceutical compounds
12-g621
13:20～ 13:40E314晶析法によるナノサイズ領域の粒子生成
(早大先進理工) ○(正)平沢 泉・ (学)金田一 智梨・ (学)巻田 舞子・ 武部 明展・ 田中 徳裕・ (月島機械) (法)銅谷 陽
Organic NPs
Antisolvent
Whirl Stream
12-g638
13:40～ 14:00E315有機酸の懸濁型融液晶析でのスケール形成開始タイミング
(農工大院工) ○(正)工藤 翔慈・ (三菱レイヨン) (正)日野 智道・ (農工大院工) (正)滝山 博志
Melt crystallization
scale formation
morphology
12-g645
(14:00～14:40) (座長 佐藤 潤・永松 大樹)
14:00～ 14:20E316速度論的解析によるアミロイドβタンパク質の過飽和の評価
(岡山大院環生) ○(正)島内 寿徳・ (正)清水 真穂・ (正)木村 幸敬
Supersaturation
Inhibitory effect
amyloid beta protein
12-g778
14:20～ 14:40E317脂質平面膜上でのリゾチウムの会合特性と結晶化
(岡山大院環生) ○(正)島内 寿徳・ (学)白髭 勇季・ (正)木村 幸敬
crystallization
lysozyme
lipid planar membrane
12-g801
(14:40～15:40) (座長 山下 誠司・中村 浩)
14:40～ 15:00E318大気圧プラズマ／微細液滴接触反応場を晶析場として活用した複合塩合成技術の開発
(千葉工大工) ○(正)和田 善成・ (学)小林 拓洋・ (正)尾上 薫・ (日大生産工) (正)松本 真和
atmospheric plasma
minute-droplet
hydroxyapatite
12-g853
15:00～ 15:20E319モルフォロジー追跡によるアルギン酸カルシウムゲルのゲル化時間の精細測定
(福島高専) ○(正)佐藤 潤・ (正)車田 研一
gelling time
calcium alginate hydrogel
morphology time evolution
12-e500
15:20～ 15:40E320オイルゲル化能を有する単糖型低分子ゲル化剤を用いたヒドロゲルの調製と物性評価
(九大学産本部) ○(正)小野 文靖・ (日産化学工業) (法)平田 修・ (九大学産本部) 一丸 恵子・ (九州先端研) 新海 征治・ (日産化学工業/九大学産本部) (法)渡邊 久幸
low molecular weight gelator
hydrogel
surfactant
12-e724
(15:40～17:00) (座長 小野 文靖・工藤 翔慈)
15:40～ 16:00E321水酸化鉄微粒子・高分子ゲル複合体の作製と砒素吸着剤への応用
(広大院工) ○(正)後藤 健彦・ (学·技基)仙本 清孝・ (正)飯澤 孝司・ (正)中井 智司
arsenate
hydrogel
iron hydroxide
12-e800
16:00～ 16:20E322B4C系複合材料の摺動時における界面反応とトライボロジー特性
(名大院工) ○(正)山下 誠司・ (学)浦野 晃弘・ (正)北 英紀
B4C composite
tribology
Friction
12-m846
16:20～ 16:40E323シャッフリング画像処理による高速流動体の自己相関持続時間の把捉法
(福島高専) ○(正)車田 研一・ 吉渡 匠汰
persistence time scale
morphology autocorrelation
inter-vision random sorting
12-l507
16:40～ 17:00E324高濃度コロイド粒子分散系のレオロジー
(豊田中研) ○(正)中村 浩・ (法)原田 雅史・ (法)熊野 尚美・ (法)草野 巧巳・ (法)石井 昌彦
Rheology
Colloidal Dispersion
Shear-thickening
12-l693

講演発表プログラム
講演プログラム一覧(横長)  (同 縦長表示)
セッション一覧
講演プログラムの検索
化学工学会 第82年会 (東京 2017)

(C) 2023 公益社団法人化学工学会 The Society of Chemical Engineers, Japan. All rights reserved.
For more information contact 化学工学会 第82年会 実行委員会
E-mail: inquiry-82awww3.scej.org