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化学工学会 第48回秋季大会

Last modified: 2016-09-07 09:49:00

講演プログラム（会場・日程別） : N会場

ST-12 電池・電気化学エネルギー変換とその未来 (D会場)の3日目午後、D316以降のスケジュールが20分繰上げとなりました（ST-13ポスターセッションの表彰式も繰り上がります）。当該部分は黄色バックで表示されます。ST-12 プログラム

N 会場(教養教育4/5号館 2F 4-202)

N 会場 ・ 第 1 日 | N 会場 ・ 第 2 日 | N 会場 ・ 第 3 日
SY-82 | SY-70 | SY-71

講演
時刻		講演
番号		講演題目／発表者キーワード分類
番号		受理
番号
N 会場(教養教育4/5号館 2F 4-202) ・ 第 1 日(9月6日(火))
SY-82 【エレクトロニクス部会シンポジウム】 エレクトロニクス材料とプロセス
(11:00～11:20) (司会 近藤 和夫)
11:00～ 11:20N107Detection of cuprous ions by micro ring electrodes on a TSV side wall
(阪府大) ○(正)Hoang Van Ha・ (正)近藤 和夫
Cuprous detection
micro electrode
TSV
SY-82588
(11:20～12:00) (司会 折田 伸昭)
11:20～ 12:00N108[招待講演] 電解槽の電流分布解析技術の進展
(ムサシ技研) (部)小原 勝彦
electrolytic cell
current distribution analysis
calculation
SY-82650
(13:00～13:20) (司会 近藤 和夫)
13:00～ 13:20N113マイクロコンタクト印刷法による核剤インクの印刷とめっきによる微細導体パターンの作製
(産総研) ○(部)所 和彦・ 尾上 美紀・ 白川 直樹・ 牛島 洋史・ (日産化学) (法)小島 圭介・ (法)近間 克己
printed electronics
micro-contact printing
electrodeposition
SY-82101
(13:20～14:20) (座長 所 和彦)
13:20～ 13:40N114磁気センサーおよび磁気コンパス向けNiFe電解めっき膜
(東設) ○(正)三宅 裕子・ (部)清水 さなえ・ (部)松井 康介・ (部)丸山 隆文・ (部)小泉 裕一
NiFe
electroplating
magnetic sensor
SY-82926
13:40～ 14:00N115パターン付きウェハーへのめっきの最先端解析
(計測エンジニアリング) ○(法)トン リチュ・ (法)永山 達彦・ (COMSOL AB) Henrik Ekstrom
Electroplating
Patterned wafer
Numerical analysis
SY-821
14:00～ 14:20N116高速銅めっき膜のφ12インチウェハ用電解めっき装置での成膜
(東設) ○(正)三宅 裕子・ (部)小泉 裕一・ (部)松井 康介・ (部)丸山 隆文
High speed Cu plating
electrodeposition
electrolytic plating apparatus
SY-82993
(14:40～15:20) (司会 折田 伸昭)
14:40～ 15:20N118[招待講演] IoT時代における半導体パッケージ技術の進展
(グローバルネット) (部)武野 泰彦
IoT
Semiconductor Package
3D
SY-82776
(15:20～16:40) (座長 武野 泰彦)
15:20～ 16:00N120[招待講演] 超高純度めっきによるナノ構造制御超低抵抗率Cu配線
(茨城大院理工) ○大貫 仁・ 玉橋 邦裕・ 伊藤 雅彦・ 小沼 重春・ 稲見 隆・ 滑川 孝・ 本間 喜夫
Nano-level Cu Wire
High Purity Electrolyte
Microstructure Analysis
SY-82679
16:00～ 16:40N122[招待講演] Determination of reaction rate constants of copper electrodeposition on a rotating disk electrode and using for simulation of the cuprous concentration inside TSVs
(阪府大) ○(正)Hoang Van Ha・ (正)近藤 和夫
Copper electrodeposition
TSV filling
cuprous
SY-82585
N 会場(教養教育4/5号館 2F 4-202) ・ 第 2 日(9月7日(水))
SY-70 【システム・情報・シミュレーション部会シンポジウム】 (3) プロセスシステム工学の最近の進歩
(9:00～10:40) (座長 金子 弘昌・大寳 茂樹)
9:00～ 9:20N201不確実性を有する生産システムのプロセス完了時刻改善問題とその解法
(名大院工) ○(学)今岡 侑太・ (正)橋爪 進・ (正)矢嶌 智之・ (愛工大情) (正)小野木 克明
improvement of process completion time
critical path
system with uncertainty
SY-70817
9:20～ 9:40N202アクティビティが全体納期を押している度合いを計算で求める方法について
(宮崎大) ○(正)高塚 佳代子・ (正)山場 久昭・ 久保田 真一郎・ 岡崎 直宣
Scheduling management
DRAG
Float
SY-70608
9:40～ 10:00N203反応と分離を含む製造プロセスにおけるマルチプロダクトとマルチタスクの比較評価
(徳島大院理工) ○(海)アルカンタラ アビラ ヘスース ラファエル・ (正)外輪 健一郎・ (正)堀河 俊英
Process modeling
multi-task manufacturing
reaction-separation systems
SY-70617
10:00～ 10:20N204廃熱利用型メチルシクロヘキサン脱水素反応システム
(産総研) ○(正·技基)熱海 良輔・ (正)松本 秀行・ 小島 宏一・ 辻村 拓
Hydrogen energy
Methylcyclohexane
Process integration
SY-70812
10:20～ 10:40N205ヒートバランス解析の効率化とプラント性能劣化監視の為の新しい指標と手法
(Eテックコンサル) (正)本田 達穂
enthalpy
heat balance
performance monitoring
SY-7026
(10:40～12:00) (座長 橋本 芳宏・川鍋 健志)
10:40～ 11:00N206流動層乾燥プロセスにおける水分量のリアルタイムモニタリング
(森永乳業) ○稲垣 孝二・ (農工大院工) (正)山下 善之
Fluidized Bed Drying
Near-Infrared Spectroscopy
Moisture
SY-70503
11:00～ 11:20N207擬似移動層式クロマトグラフィー分離プロセスにおける糖成分のリアルタイムモニタリング
(森永乳業) ○稲垣 孝二・ (農工大院工) (正)山下 善之
Near-Infrared Spectroscopy
Simulated Moving-Bed
Chromatography
SY-70508
11:20～ 11:40N208適応型ソフトセンサーおよび推定値の平滑化を実現するソフトセンサーツールの開発
(東大院工) ○(正)金子 弘昌・ (三井化学) 大寳 茂樹・ (正)松本 卓也・ (東大院工) (正)船津 公人
soft sensor
offline analysis
online analysis
SY-7013
11:40～ 12:00N209異常継続時間に基づく時系列クラスタリングによる異常状態遷移の可視化
(NEC) (正)棗田 昌尚
Clustering
Fault localization
Invariant networks
SY-70417
(13:00～14:40) (座長 柘植 義文・樋口 文孝)
13:00～ 13:20N213[優秀論文賞] 内部熱交換型蒸留塔の最適構造合成
(京大院工) ○(学·技基)高瀬 洋志・ (正)長谷部 伸治
Process Synthesis
Energy Saving
Linear Formulation
SY-7071
13:20～ 13:40N214CZ法を利用した300 mmシリコン単結晶製造プロセスのグレイボックスモデリング
(京大工) (正·技基)瀬戸 樹・ ○(正·修習)金 尚弘・ (京大情報) (正)加納 学・ (SUMCO) (正)藤原 俊幸・ (正)水田 匡彦・ (京大工) (正)長谷部 伸治
Czochralski process
Single-crystal silicon
Gray-box model
SY-70241
13:40～ 14:00N215類似度に基づくシリコンウェーハの平坦度調整
(SUMCO) ○(正)水田 匡彦・ (京大情報) (正)加納 学
silicon wafer
flatness
similarity
SY-70346
14:00～ 14:20N216変数除去寄与による異常要因同定:酢酸ビニル製造プラントへの適用
(京大情報) ○(学)里山 雄亮・ (正)藤原 幸一・ (正)加納 学
fault identification
multivariate statistical process control
kernel principal component analysis
SY-70592
14:20～ 14:40N217酢酸ビニル製造プラントへの2自由度E-FRITの適用
(京大情報) ○(学)張 芯諾・ (正)加納 学・ (アズビル) (正)小河 守正・ (首都大シス) 増田 士朗
two-degree-of-freedom PID control system
extended fictitious reference iterative tuning
data-driven controller tuning
SY-70594
(14:40～16:00) (座長 山下 善之・水田 匡彦)
14:40～ 15:00N218並列マイクロリアクタの閉塞診断のための流体分配・収集装置設計とセンサ配置
(京大院工) ○(学·技基)辻 諒太郎・ (学·技基)多賀 敏暉・ (正)殿村 修・ (正)谷口 智・ (正)長谷部 伸治
Microreactor blockage diagnosis
Flow distributor design
Sensor location
SY-70807
15:00～ 15:20N219医薬品製造における過酸化水素を用いた除染プロセスのモデル構築
(東大院工) ○(学)藪田 啓奨・ (エアレックス) 二村 はるか・ (正)川﨑 康司・ (東大院工) (正)平尾 雅彦・ (正)杉山 弘和
Process design
Sterile drug product manufacturing
Isolator
SY-70174
15:20～ 15:40N220Process performance assessment based on stochastic simulation in sterile drug product manufacturing
(U. Tokyo) ○(学)Casola Gioele・ (Hoffmann-La Roche) Siegmund Christian・ Mattern Markus・ (U. Tokyo) (正)Sugiyama Hirokazu
Performance Assessment
Sterile Drug Product Manufacturing
Stochastic Simulation
SY-7015
15:40～ 16:00N221医薬品連続製造を対象とするプロセスシステム工学研究
(東大院工) ○(正)杉山 弘和・ (学)松並 研作
Pharmaceutical manufacturing
Continuous manufacturing
Process design
SY-7080
N 会場(教養教育4/5号館 2F 4-202) ・ 第 3 日(9月8日(木))
SY-71 【システム・情報・シミュレーション部会シンポジウム】 (4) 第15回プロセスデザイン学生コンテスト
(9:00～12:00) (司会 山下 善之・武田 和宏)
9:00～ 12:00N301第15回プロセスデザイン学生コンテスト
(農工大) (正)山下 善之
process design
education
SY-7141
(14:00～16:00) (司会 鈴木 剛・末吉 一雄・渕野 哲郎)
14:00～ 16:00講評，総合討論，表彰式

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化学工学会 第48回秋季大会

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