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化学工学会 第84年会

Last modified: 2019-03-12 11:30:00

講演要旨は各講演番号からリンクしています。(要ID/PW)
閲覧に必要なID/PWは受付でお配りするプログラム集冊子の1ページに記載しているほか、
事前参加登録者・ご招待者には2月27日にメールでお知らせしています。詳細
HC-13, HC-17, K-1にプログラム変更があります。

講演プログラム一覧表 (縦配置)

第 1 日 (3月13日(水)) | 第 2 日 (3月14日(木)) | 第 3 日 (3月15日(金))

会場 第 1 日 (3月13日(水))
午前午後
交流棟
Z交流棟6階 大講義室 開会式 0-a 化学工学会学会賞 CS-1 化学工学会のプレゼンス向上のために －調理科学ならびに食品工学との協同を目指して－ ポスター表彰 第1日
9:00～10:40 Z105-Z106
10:40～12:00		 Z113-Z121
13:00～16:20		 17:00～17:30
教室棟
A教室棟3階 301 HC-11 産業界の炭素循環・固定化技術による脱炭素化と温室効果ガス80%削減への挑戦
A114-A121
13:10～16:50
B教室棟3階 302
C教室棟3階 303
E教室棟4階 403 4 分離プロセス
E113-E120
13:00～15:40
F教室棟4階 404 4 分離プロセス
F113-F122
13:00～16:20
G教室棟4階 405 7 バイオ
G113-G122
13:00～16:20
H教室棟4階 406 12 材料・界面
H113-H124
13:00～17:00
I教室棟4階 407 10 安全 HC-13 2018年度インターンシップ報告会
I113-I116
13:00～14:20		 I119-I127
15:00～16:50
J教室棟4階 408
K教室棟5階 502
L教室棟5階 503
交流棟
Q交流棟2階 ラウンジ HC-14 2018年度インターンシップ報告会交流会
Q125-Q129
17:00～18:30
R交流棟3階 カフェテリア
S交流棟4階 401 5 反応工学
S122-S124
16:00～17:20
T交流棟4階 402 X-51 粒子・流体プロセス部会セミナー
T118-T123
13:30～17:40
P交流棟6階 ホワイエ一般研究発表・ポスターセッション
ポスターセッションA 第1日 午後 (システム・情報・シミュレーション, 超臨界, エネルギー) ポスター表彰 第1日 (Z会場)
PA101-PA187
13:20～15:20		 17:00～17:30
懇親会(交流棟3階,R会場と同一)
交流棟3階 カフェテリア
会場 第 2 日 (3月14日(木))
午前午後
交流棟
Z交流棟6階 大講義室 [特別企画シンポジウム] デジタルで拓く次世代プラント
Z215-Z223
13:40～17:40
教室棟
A教室棟3階 301 SS-1 日本の産業を支える技術イノベーション 0-d 化学工学会技術賞 SS-2 循環型社会を目指す開発型企業の取り組み
A201-A208
9:00～12:00		 A212-A213
13:00～13:25		 A216-A224
13:40～17:20
B教室棟3階 302 SS-3 化学関連産業の経営課題　化学関連産業はＳＤＧｓにどう取り組むか　－経営の視点から－
B216-B223
13:40～17:30
C教室棟3階 303 HC-12 「社会実装学研究会」～社会実装への化学工学の挑戦～
C201-C218
9:00～17:00
E教室棟4階 403 4 分離プロセス 13 環境
E201-E209
9:00～12:00		 E213-E224
13:00～17:00
F教室棟4階 404 4 分離プロセス
F201-F224
9:00～17:00
G教室棟4階 405 12 材料・界面 7 バイオ
G201-G209
9:00～12:00		 G213-G224
13:00～17:00
H教室棟4階 406 8 超臨界流体 3 熱工学
H201-H217
9:00～14:40		 H219-H224
15:00～17:00
I教室棟4階 407 6 システム・情報・シミュレーション
14 広領域		 HC-16 女性技術者フォーラム
I201-I209
9:00～12:00		 I213-I222
13:00～16:20
J教室棟4階 408国際シンポジウム
K-1 第9回 日中化工シンポジウム ―化学プロセスAI・IoT化と安全―
J213-J223
13:00～17:00
K教室棟5階 502 SS-7 海外留学生と企業との就職に関する交流会
K201-K211
9:00～12:30
L教室棟5階 503 SS-7 海外留学生と企業との就職に関する交流会
L201-L211
9:00～12:30
交流棟
Q交流棟2階 ラウンジ
R交流棟3階 カフェテリア 懇親会
18:00～20:00
S交流棟4階 401 5 反応工学
S213-S224
13:00～17:00
T交流棟4階 402 2 粒子・流体プロセス ポスター表彰 第2日
T201-T224
9:00～17:00		 17:10～17:40
P交流棟6階 ホワイエ一般研究発表・ポスターセッション
ポスターセッションB 第2日 午前 (基礎物性, バイオ, 環境) ポスターセッションC 第2日 午後 (エレクトロニクス, 材料・界面, 広領域) ポスター表彰 第2日 (T会場)
PB201-PB291
9:20～11:20		 PC201-PC274
13:20～15:20		 17:10～17:40
懇親会(交流棟3階,R会場と同一)
交流棟3階 カフェテリア 懇親会
18:00～20:00
会場 第 3 日 (3月15日(金))
午前午後
交流棟
Z交流棟6階 大講義室 HC-17 福島復興と廃炉技術の現状と課題 SV-1 第４回化学工学ビジョンシンポジウム　未来のあるべき化学工場 ポスター表彰 第3日
Z301-Z305
9:00～11:20		 Z313-Z321
12:55～16:00		 17:00～17:30
教室棟
A教室棟3階 301 SS-4 脱炭素化に向けた化学関連産業の挑戦 SS-5 忘れてはいけない単位操作　－（実用粉体ハンドリング技術）－
A302-A308
9:20～12:00		 A313-A319
13:00～15:40
B教室棟3階 302 SS-6 未来社会を見据えた現場力向上のための新技術の活用と人材育成
B306-B319
10:35～15:40
C教室棟3階 303
E教室棟4階 403 13 環境 4 分離プロセス
E301-E307
9:00～11:20		 E313-E323
13:00～16:40
F教室棟4階 404 9 エネルギー
F301-F324
9:00～17:00
G教室棟4階 405 7 バイオ 12 材料・界面
G306-G309
10:40～12:00		 G313-G324
13:00～17:00
H教室棟4階 406 12 材料・界面
H301-H324
9:00～17:00
I教室棟4階 407 1 基礎物性
I301-I323
9:00～16:40
J教室棟4階 408国際シンポジウム
K-2 第9回 日中化工シンポジウム ―環境― K-3 第9回 日中化工シンポジウム ―生物化学工学―
J301-J308
9:00～11:50		 J313-J319
13:00～15:50
K教室棟5階 502 K-4 第9回 日中化工シンポジウム ―ポスターセッション―
K301-K317
16:00～17:10
L教室棟5階 503
交流棟
Q交流棟2階 ラウンジ HQ-21 [全国若手の会] 若手研究者が考える未来の化学工学研究
Q301-Q315
13:00～16:00
R交流棟3階 カフェテリア SP-8 忘れてはいけない単位操作　－（実用粉体ハンドリング技術）－（ポスターセッション）
SP-9 未来社会を見据えた現場力向上のための新技術の活用と人材育成 （ポスターセッション）
R301-R316
R321-R336
16:00～17:30
S交流棟4階 401 5 反応工学
S301-S309
9:00～12:00
T交流棟4階 402 2 粒子・流体プロセス
T301-T308
9:00～11:40
P交流棟6階 ホワイエ一般研究発表・ポスターセッション
ポスターセッションD 第3日 午前 (熱工学, 分離プロセス) ポスターセッションE 第3日 午後 (粒子・流体, 反応工学) ポスター表彰 第3日 (Z会場)
PD301-PD378
9:20～11:20		 PE301-PE373
13:20～15:20		 17:00～17:30
懇親会(交流棟3階,R会場と同一)
交流棟3階 カフェテリア

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