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化学工学会 第50回秋季大会

Last modified: 2018-09-04 10:00:00

講演プログラム（会場・日程別） : CD会場

講演要旨は各講演番号からリンクしています。(要ID/PW)
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CD 会場(工学部共通棟 3F 302)

CD 会場 ・ 第 1 日 | CD 会場 ・ 第 2 日 | CD 会場 ・ 第 3 日
ST-23 | ST-25

講演
時刻		講演
番号		講演題目／発表者キーワード分類
番号		受理
番号
CD 会場(工学部共通棟 3F 302) ・ 第 1 日(9月18日(火))
ST-23 [部会横断型シンポジウム]
都市鉱山リサイクルに向けてのアプローチ
(9:00～10:20) (司会 大島 達也・村山 憲弘)
9:00～ 9:40CD101[展望講演] 都市鉱山開発活性化への道
(NIMS) 原田 幸明
Urban mining
Recycle
Reserves
ST-23956
9:40～ 10:00CD103[依頼講演] 貴金属リサイクルの最近の動向
(田中貴金属工業) (正)奥田 晃彦
Precious metal
Recycling
Wet process
ST-23291
10:00～ 10:20CD104[依頼講演] 合わせガラス型太陽電池の低コスト分解処理技術
(ソーラーフロンティア) 原田 秀樹
recycle
CIS-PVmodule
low cost
ST-23201
10:20～ 10:40休憩
(10:40～12:00) (座長 松岡 光昭・鈴木 智也)
10:40～ 11:00CD106ハロゲン含有ピリジン誘導体を用いたPd(II)の選択的沈殿
(産総研) ○(正)鈴木 智也・ (正)尾形 剛志・ 小林 徹・ 塩飽 秀啓・ 矢板 毅・ (正)成田 弘一
palladium
precipitant
pyridine derivatives
ST-23835
11:00～ 11:20CD107陰イオン除去能の付与を目的とした製鋼スラグの湿式処理について
(関西大環都工) ○(学)園田 知之・ 奥田 優也・ (正)松岡 光昭・ (正)村山 憲弘・ (正)林 順一
Steelmaking slag
Anion removal agent
Recycling
ST-23302
11:20～ 11:40CD108フライアッシュを用いたジオポリマー硬化体の作製とその機械的特性におよぼす調製条件の影響
(関西大環都工) ○(正)松岡 光昭・ 横山 佳帆・ (正)村山 憲弘・ (関西大化生工) 上田 正人
Geopolymer
Coal fly ash
ST-23400
11:40～ 12:00CD109有機王水を用いた 使用済み電気・電子機器からの金回収プロセスの開発
(千葉大院工) ○(学)鷹取 孝太・ 峯尾 知子・ (東京鐵鋼) 長瀬 優希・ 名古屋 隆司・ 櫻井 憲一・ 佐々木 文雄・ (エコナジー) 小田部 和美・ (千葉大院工) (正)松野 泰也
precious metal
propylene carbonate
recycling
ST-23157
(13:00～14:40) (座長 中井 智司・後藤 健彦)
13:00～ 13:20CD113[依頼講演] 使用済み超硬工具からの新規タングステン回収システムの開発
(広大院工) (正)荻 崇
Urban mining
Recycle
Charged Amino Group Assisted Precipitation
ST-23164
13:20～ 13:40CD114[依頼講演] アンチモンに選択性を有する吸着分離剤の開発
(産総研) ○(正)尾形 剛志・ (正)成田 弘一・ (正)鈴木 智也・ 大石 哲雄・ (正)田中 幹也
antimony
adsorption
recovery
ST-23438
13:40～ 14:00CD115パン酵母を利用する都市鉱山からの貴金属・レアメタル分離・回収
(阪府大院工) 斎藤 範三・ 中谷 昌揮・ (正)野村 俊之・ ○(正)小西 康裕
recycling
precious and rare metals
baker's yeast
ST-23805
14:00～ 14:20CD116微生物機能を活用する白金族金属の資源循環・金属触媒調製
(阪府大院工) 斎藤 範三・ 田中 里依・ (正)野村 俊之・ ○(正)小西 康裕
recycling
platinum group metals
nanoparticle catalysts
ST-23815
14:20～ 14:40CD117種々のモノマーから作製した高分子吸着剤による希土類元素の吸着挙動
(産総研/早大院創造理工) ○(学)篠崎 智博・ (産総研) (正)尾形 剛志・ (正)成田 弘一・ (早大) (正)所 千晴・ (産総研) (正)田中 幹也
rare earth elements
recovery
adsorption
ST-23346
14:40～ 15:00休憩
(15:00～16:00) (座長 大渡 啓介・久保田 富生子)
15:00～ 15:20CD119ベタイン型イオン交換樹脂による塩酸溶液中の白金族金属の吸着
(関西大環都工) ○(学)大坪 右京・ (正)松岡 光昭・ (正)村山 憲弘・ (産総研) (正)鈴木 智也・ (正)尾形 剛志・ (正)成田 弘一
Adsorption
Platinum group metal
Betaine-type ion-exchange resin
ST-23301
15:20～ 15:40CD120ドロマイト系重金属吸着剤の開発とその特性
(新潟大工) ○(学)菊池 竜矢・ (正)金 熙濬
Heavy Metal Adsorbent
Dolomite
phosphorus
ST-23631
15:40～ 16:00CD121ナイロンナノファイバー膜を用いた塩酸溶液中の金イオン回収プロセスの開発
(名大工) ○(正)向井 康人・ (学)田辺 智亮
nanofiber membrane
adsorption
gold ion
ST-231080
(16:00～17:20) (座長 向井 康人・上田 祐生)
16:00～ 16:20CD122エーテル類による塩酸系からのAu(III)抽出に影響する構造的因子の検討
(宮崎大工) ○(正)大島 達也・ 堀内 隆志・ (学)小山 貴生・ (学)松崎 喜代治・ (正)大榮 薫・ (日本ゼオン) (法)大槻 記靖
gold
extraction
ether
ST-23117
16:20～ 16:40CD123フッ素を導入したアミド型抽出試薬による貴金属の抽出
(佐賀大理工) ○(正)大渡 啓介・ 橋口 正宏・ 佐藤 太亮・ (原子力機構) (正)上田 祐生・ (佐賀大理工) (正)森貞 真太郎・ (正)川喜田 英孝・ (田中貴金属工業) 近江 健太郎
Extraction
Precious metals
Amide
ST-23623
16:40～ 17:00CD124新規イオン液体による自動車触媒浸出液からのPGMsの抽出分離
(九大院工) ○(正)久保田 富生子・ Firmansyah M. Lutfi・ (学·技基)吉田 航・ (正)後藤 雅宏
ionic liquids
PGMs
recycle
ST-23612
17:00～ 17:20CD125白金族金属の選択的抽出のための新規イオン液体開発
(原子力機構) ○(正)上田 祐生・ (茨城大) 菊池 圭
extraction
platinum group metal
ionic liquids
ST-231053
CD 会場(工学部共通棟 3F 302) ・ 第 2 日(9月19日(水))
ST-25 [部会横断型シンポジウム]
CVD・ドライプロセス -デバイス構造・機能制御の反応工学-
(13:00～14:00) (座長 霜垣 幸浩)
13:00～ 13:40CD213[展望講演] 熱CVD法を用いた切削工具用硬質膜の開発と展望
(京セラ) (法)谷渕 栄仁
CVD
Cutting tool
Hard coating
ST-25468
13:40～ 14:00CD215アルキルアルミニウムを用いたアルミナ膜の新規合成法の開発
(京大院工) ○(学·技基)中村 琢海・ (学)猪口 和明・ (学)長田 翔・ (京大工) (学)屋嘉比 亮・ (正)河瀬 元明
CVD
alkyl aluminum
alumina
ST-25882
(14:00～15:00) (座長 下山 裕介)
14:00～ 14:20CD216熱CVD法による高Al組成fcc-TiAlN膜の合成(2)
(東大院工) ○(学)山口 潤・ 平原 智子・ (京セラ) (法)久保 隼人・ (東大院工) (正)出浦 桃子・ (正)百瀬 健・ (京セラ) (法)谷渕 栄仁・ (東大院工) (正)霜垣 幸浩
CVD
TiAlN
cutting tool
ST-25561
14:20～ 14:40CD2174H-SiC CVDトレンチ埋込成長機構及びHClガス添加効果の検討
(産総研) ○(正)望月 和浩・ 紀 世陽・ 足立 亘平・ 小杉 亮治・ 米澤 喜幸・ 奥村 元
4H-SiC
trench filling
HCl
ST-25142
14:40～ 15:00CD218SiC-CVIプロセスにおける表面反応過程の理論検討
(東大院工) ○(学)佐藤 登・ (正)中 智明・ (学)根藤 佳史・ (正)舩門 佑一・ (IHI) (正)福島 康之・ (東大院工) (正)出浦 桃子・ (正)百瀬 健・ (正)霜垣 幸浩
SiC
CVI
Surface Reaction
ST-25919
CD 会場(工学部共通棟 3F 302) ・ 第 3 日(9月20日(木))
(9:00～10:00) (座長 川上 雅人)
9:00～ 9:20CD301超臨界流体薄膜堆積による高アスペスト比構造への銅の均一製膜指針
(東大院工) ○(学)藤田 翔太郎・ (正)出浦 桃子・ (東工大院理工) (正)下山 裕介・ (東大院工) (正)霜垣 幸浩・ (正)百瀬 健
Supercritical fluid deposition
Diffusion coefficient
Kinetics
ST-25905
9:20～ 9:40CD302Supercritical dying and impregnation for fabrication of porous carbon electrode on Li-O2/CO2 battery
(東工大物質理工) ○(学)Kunanusont Nattanai・ (正)下山 裕介
Li- O2/CO2 battery
supercritical carbon dioxide
ionogel binder
ST-25685
9:40～ 10:00CD303Tetracene thin film formation for organic photovoltaics by temperature-driven supercritical fluid deposition
(東大院工) ○(学)黎 彦劭・ (正)出浦 桃子・ (東工大院理工) (正)下山 裕介・ (東大院工) (正)霜垣 幸浩・ (正)百瀬 健
Temperature-driven Supercritical Fluid Deposition
Crystallization
Tetracene
ST-251058
(10:00～11:00) (座長 野田 優)
10:00～ 10:20CD304[招待講演] グラフェンをはじめとする二次元材料のCVD成長と生成機構
(九大GIC/産総研) 吾郷 浩樹
graphene
epitaxial growth
hexagonal boron nitride
ST-2544
10:20～ 10:40CD305硫化水素添加が熱分解炭素CVDに及ぼす影響
(京大工) ○(学·技基)牧野 優作・ (正)河瀬 元明
CVD
Carbon
Hydrogen sulfide
ST-25978
10:40～ 11:00CD306CsxWO3 ナノ粒子の火炎噴霧合成と光学特性
(広大院工) ○(学)平野 知之・ 中倉 修平・ (学)Rinaldi Febrigia Ghana・ (正·修習)荻 崇
cesium tungsten bronze
flame-assisted spray pyrolysis
aerosol
ST-25113
(11:00～12:00) (座長 島田 学)
11:00～ 11:20CD307浮遊触媒形成の温度場制御と単層カーボンナノチューブの気相合成
(早大先進理工) ○(学)並木 克也・ (早大高等研) (正)杉目 恒志・ (早大先進理工) (正)大沢 利男・ (正)野田 優
single-wall carbon nanotube
reaction field control
floating catalyst chemical vapor deposition
ST-25336
11:20～ 11:40CD308ミストCVD法による高品質酸化亜鉛薄膜の作製および反応メカニズムの解明
(高知工大院) ○(学)西 美咲・ (高知工大) 長谷川 諒・ 安岡 龍哉・ (高知工大院) 上田 真理子・ 坂本 雅仁・ 佐藤 翔太・ Phimolphan Ruttongja・ Liu Li・ (高知工大院/総研) Dang. T Gian・ 川原村 敏幸
Mist CVD
ZnO
reaction mechanism
ST-25879
11:40～ 12:00CD309減圧熱CVD法で作製したリチウムドープ酸化亜鉛薄膜の比誘電率
(東海大院工) ○(学)竹元 慧・ (正)秋山 泰伸
CVD
Lithium-doped Zinc Oxide
Ferroelectric
ST-25832
(13:00～14:00) (座長 秋山 泰伸)
13:00～ 13:40CD313[展望講演] 接触分解反応による活性種を利用した薄膜堆積と表面改質:HWCVD法の基礎と応用展開
(九工大工) 和泉 亮
HWCVD
Thin film
Surface modification
ST-25243
13:40～ 14:00CD315アミノシラン系SiO2-ALDの反応速度解析
(東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ) ○(正)川上 雅人・ 加賀谷 宗仁・ 光成 正・ 佐藤 潤・ 矢部 和雄
ALD
aminosilane
reaction kinetics
ST-25226
(14:00～15:00) (座長 筑根 敦弘)
14:00～ 14:20CD316[招待講演] プラズマエッチングにおけるSiO2/Si界面準位の生成と制御
(ソニーセミコンダクタマニュファクチャリング) ○長畑 和典・ 重歳 卓志
Plasma
Etching
Damage
ST-25330
14:20～ 14:40CD317RFプラズマCVDによるTiB系硬質膜の製膜と評価
(阪府大院工) ○(学)清川 大地・ (阪府大工) 冨士 和樹・ (阪府大院工) (正)岡本 尚樹・ (正)齊藤 丈靖
hard coating
plasma CVD
TiBCN
ST-25937
14:40～ 15:00CD318Ag粒子とTiO2粒子の堆積で作製した複合薄膜の可視光照射下での光触媒活性
(広大院工) ○(学·技基)正木 佑弥・ 姜 殿平・ (正)久保 優・ (正)島田 学・ (広大院工/ITS Surabaya) (正)Kusdianto K.
PVD
PECVD
nanoparticle
ST-25576

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