化学工学会-SCEJ

化学工学会 第72年会

講演プログラム（会場・日程別）

R会場 第1日

最終更新日時：2007-02-13 11:13:24

仮プログラムとは会場名が変更されていますのでご注意ください。

講演
時刻		講演
番号		講演題目／発表者キーワード分類
番号		受理
番号
反応工学
(10:00〜11:00)　(座長 山崎 章弘)
10:00〜 10:20R104超音波の酵素に与える影響と超音波を用いた2相系酵素加水分解反応
(金沢大院) ○(学)山本 寛純・(金沢大卒) 澤野 由佳・(金沢大院) (正)林 良茂・(正)川西 琢也		ultrasound
enzyme
emulsion
5-i545
10:20〜 10:40R105誘電体バリア放電による硫化水素の直接分解に及ぼす水素の影響
(千葉工大工) ○(学)長添 寛・(日揮) (正)小黒 秀一・(千葉工大工) (正)山口 達明・(正)尾上 薫		hydrogen sulfide
hydrogen
plasma
5-i477
10:40〜 11:00R106無声放電リアクタを用いた脂肪族炭化水素のCO2改質のエネルギー効率による評価
(産総研) ○(正)菅澤 正己・二タ村 森		SDR
CO2 reforming
Energy efficiency
5-i5
(11:00〜12:00)　(座長 菅澤 正己)
11:00〜 11:20R107低温プラズマと膜分離の複合による新規なVOCs分解反応器モデルの構築
(東大院新領域) ○(学)新井 英敬・(産総研) (正)山崎 章弘・尾形 敦・(東大院新領域) (正)柳沢 幸雄		Nonthermal Plasma
Membrane Reactor
VOCs Decomposition
5-i386
11:20〜 11:40R108連続処理型マイクロ波応用化学反応装置の開発
(日立機械研) ○(正)松澤 光宏・窪田 哲男・(正)富樫 盛典・(日立プラントテクノロジー) (正)末松 孝章		Microwave
Flow processing
Chemical reactor
5-e728
11:40〜 12:00R109液晶ポリマー重合におけるアセチル化反応の数学モデル化
(金沢大院) ○(正)多田 薫・(正)山田 敏郎・(ポリポラスチックス) 加中 桂一		Liquid Crystalline Polymer (LCP)
Acetylation
Mathematic Modeling
5-i476
反応工学 −CVD・ドライプロセス−
(13:00〜14:20)　(座長 田之上 健一郎)
13:00〜 13:20R113矩形波 交流電圧を用いた静電噴霧熱分解によるナノ粒子
(阪府大) ○(学)黒田 峻・(学)横山 奈津子・(部)足立 元明		Electrospray
Nanoparticle
Synthesis
5-h600
13:20〜 13:40R114高圧水素雰囲気におけるマグネシウム水素化物の気相合成とその制御因子
(北大CAREM) ○(正)斉田 愛子・(北大工) 佐藤 政仁・林 治弥・(北大CAREM) (正)秋山 友宏		Magnesium
CVD
Metal Hydride
5-h285
13:40〜 14:00R115熱分解炭素CVDにおける気相反応の詳細化学反応速度モデル
(北大エネセン) ○(正)則永 行庸・三枝 直路・(正)林 潤一郎・(カールスルーエ大) Deutschmann Olaf		carbon
CVD
chemical kinetics
5-h657
14:00〜 14:20R116チタン酸ストロンチウム薄膜の熱CVD
(東海大院) ○(正)秋山 泰伸・村上 博史・下中 克也		CVD
Strontium Titanate
Thin film
5-h133
(14:20〜15:40)　(座長 秋山 泰伸)
14:20〜 14:40R117CVD法におけるTiN膜製造過程におよぼす塩酸の吸着阻害の影響
(山口大工) ○(正)田之上 健一郎・小田 慎一郎・山内 隆・中村 太郎・(正)西村 龍夫・(タンガロイ) 高橋 浩司		TiN coating
gas phase reaction
retarding effect
5-h804
14:40〜 15:00R118LP-CVD-HTOプロセスの表面積／反応空間比
(富士電機アドバンストテクノロジー) ○(正)酒井 茂・荻野 正明・清水 了典・(東大院) (正)霜垣 幸浩		CVD
HTO
5-h85
15:00〜 15:20R119Si-CVD炉表面析出の流れ反応解析
(FAT) ○(正)松本 悟史・(東大) (正)霜垣 幸浩・(FAT) 清水 了典・(正)酒井 茂・荻野 正明		Si-CVD
CFDcomputational fluid dynamics
CFD
5-h180
15:20〜 15:40R120GaAs-MOVPEにおける表面吸着層のin situ観察および解析
(東大院工) ○(学)出浦 桃子・(正)杉山 正和・中野 貴之・(東大先端研) 中野 義昭・(東大院工) (正)霜垣 幸浩		MOVPE
GaAs
surface adsorption layer
5-h579
(15:40〜16:40)　(座長 則永 行庸)
15:40〜 16:00R121選択成長を利用したGaAs-MOVPEプロセスの表面反応機構解析
(東大工) ○(正)宋 海政・(正)杉山 正和・(東大先端研) 中野 義昭・(東大工) (正)霜垣 幸浩		GaAs
MOVPE
反応機構解析
5-h606
16:00〜 16:20R122InGaAsP/InP系有機金属気相成長における表面マイグレーション長の成長条件依存性
(東大院工) ○(学)塩田 倫也・(学)鬼塚 隆祐・王 雲鵬・(正)杉山 正和・(正)霜垣 幸浩・(東大先端研) 中野 義昭		crystal growth
metal-organic vapor phase epitaxy
selective area growth
5-h737
16:20〜 16:40R123InGaAsP系選択MOVPEにおけるリアクタースケール分布
(東大院工) ○(学)鬼塚 隆祐・(学)塩田 倫也・(正)宋 海政・(正)杉山 正和・(正)霜垣 幸浩・(東大先端研) 中野 義昭		MOVPE
crystal growth
selective area growth
5-h786
講演プログラム
化学工学会 第72年会
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Most recent update: 2007-02-13 11:13:24
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