化学工学会-SCEJ

化学工学会 第72年会

講演プログラム（会場・日程別）

M会場

最終更新日時：2007-02-13 11:13:24

仮プログラムとは会場名が変更されていますのでご注意ください。


第1日
講演
時刻		講演
番号		講演題目／発表者キーワード分類
番号		受理
番号
先端化学産業技術プログラム ＜S-3. プロセス＆プロダクションテクノロジー＞
(11:20〜12:00)　(司会 上田 博・藤澤 靖生)
11:20〜 12:00M108[招待講演]　水素の輸送・貯蔵技術の動向
(川崎重工業) ○(正)神谷 祥二
S-321
(13:20〜13:40)　(司会 上田 博)
13:20〜 13:40M114磁気分離機によるFCC廃触媒削減技術の実証化
(新日本石油) ○(正)迫田 尚夫・福井 義明・佐原 渉・(新日石精) 鈴木 辰弘		FCC
Catalyst
HGMS
S-31
(13:40〜15:00)　(座長 藤澤 靖生)
13:40〜 14:00M115液化DMEを用いる省エネルギー固体常温脱水プロセスの技術開発について
(電中研) ○(正)神田 英輝・(正)牧野 尚夫・(京大院工) (正)宮原 稔		Dimethyl ether
Non-heated dewatering
Control of water content
S-350
14:00〜 14:20M116化学プラントの制御性改善手法と社内事例紹介
(三井化学大牟田工場技術部システム技術G) ○(共)大寳 茂樹		PID control performance improvement
Model Identification
S-315
14:20〜 14:40M117モデルベースト・アプローチによる化学プロセスの最適化
(ピーエスイージャパン) ○柏屋 滋		modeling
validation
optimisation
S-395
14:40〜 15:00M118Comprehensive Thermodynamics Model by First Principle Molecular Simulation
(OLI Systems) ○Anderko Andrzej・(Turner Tech.) Turner Hamp・(日本化学工業) (正)Tunashima Katsuhiko・(正)Yamazaki Yasuo		model
thermodynamics
simulation
S-3686
(15:00〜15:40)　(司会 由良 慶太・穂本 幸生)
15:00〜 15:40M119[招待講演]　改質褐炭プロセスの技術開発について
(神戸製鋼所) ○(正)重久 卓夫
S-319
(15:40〜17:00)　(座長 穂本 幸生)
15:40〜 16:00M121液パルスインジェクション法による気相成長繊維状炭素の高効率製造
(北大工) ○(正)向井 紳		Vapor Grown Carbon Fiber
Carbon Nanofiber
Liquid Pulse Injection
S-3155
16:00〜 16:20M122低誘電率有機層間絶縁材料の開発
(住友ベークライト) ○奥川 良隆・平田 明広・中村 謙介・大東 範行・出島 裕久		low dielectric constant
norbornene
nano silica
S-3107
16:20〜 16:40M123ナノコンポジットガスバリア材料
(住友化学生産技術センター) ○阪谷 泰一		nanocomposite
barrier
maze
S-345
16:40〜 17:00M124青果物鮮度保持フィルムP-プラスについて
(住友ベークライト) ○溝添 孝陽		fruits and vegetables
respiration
oxygen permeability
S-3614

第2日
講演
時刻		講演
番号		講演題目／発表者キーワード分類
番号		受理
番号
先端化学産業技術プログラム ＜S-3. プロセス＆プロダクションテクノロジー＞
(10:00〜12:00)　(座長 上田 博・近藤 篤)
10:00〜 10:40M204[招待講演]　濃硫酸法によるバイオマスエタノール製造技術
(日揮) ○(正)住吉 剛史
S-318
10:40〜 11:20M206[招待講演]　ラクタムプロセス
(住友化学) ○(正)和泉 好高
S-317
11:20〜 11:40M208マイクロ化学プロセス技術を利用した微粒子製造
(富士フィルム) ○(正)長澤 英治・(京大) (正)前 一廣		Fine particle
Continuous production
Microreactor
S-3830
11:40〜 12:00M209過酸化水素酸化反応用マイクロリアクションシステムの開発
(三菱ガス化学/京大工) ○(正)夕部 邦夫・(京大工) (正)前 一廣		microreaction system
selective oxidation
hydrogen peroxide
S-3831
エレクトロニクス
(13:00〜14:00)　(座長 近藤 和夫)
13:00〜 13:20M213半導体プロセス設計のための量子分子動力学法に基づくマルチフィジックスシミュレータの開発
(東北大院工/JSTさきがけ) ○(正)久保 百司・(東北大院工) 坪井 秀行・(正)古山 通久・畠山 望・(正)遠藤 明・(正)高羽 洋充・Del Carpio Carlos A.・(東北大未来セ/東北大院工) (正)宮本 明		quantum chemical molecular dynamics
semiconductor fabrication process
multi-physics simulation
11-a43
13:20〜 13:40M214電場下における銀イオンの拡散
(京大) ○(正)荻野 文丸		forced diffusion of ion
migration of silver
electrochemical engineering
11-b72
13:40〜 14:00M215半導体パッケージのはんだリフロー強度予測技術-その 2-
(住友ベークライト) ○沼田 孝・田中 宏之・(京大院工) 濱田 学・池田 徹		packaging material
moisture sensitivity level
computer simulation
11-d562
講演プログラム
化学工学会 第72年会
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Most recent update: 2007-02-13 11:13:24
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E-mail: inquiry-72awww2.scej.org
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