2010年度
| 伏見 千尋 | 「三塔式大型循環流動層の開発 (1)高速高密度運転時の流動特性」 |
| Oketch Lamek Onyango | 「Analysis of Enhancement Mechanism on Mixing with Baffles by use of Three-Dimensional Streak Visualization」 | |
| 小林 秀樹 | 「剪断流下鎖分散系の粘性率の数値計算的解析」 | |
| 齋藤 優子 | 「粒子の拡散を考慮した超遠心分析による粒子径分布解析の検討」 |
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去る9月に同志社大学で開催されました化学工学会第42回秋季大会における粒子・流体プロセス部会関連企画のシンポジウムS-39「粒子・流体プロセス研究・教育の新しい課題と方向」、S-40「気泡・液滴・微粒子分散工学2010」、S-41「新たな展開を迎えるミキシング技術の理論・測定・装置」、S-42「粉体プロセス技術の新展開~機能化、基礎プロセス技術から応用事例まで」での発表を対象として、シンポジウム賞(奨励賞とプレゼンテーション賞)が選考されました。
奨励賞は、審査を希望する37歳未満の正会員の発表を対象とし、プレゼンテーション賞は、社会人Dr.を除く学生会員による全発表を審査対象としました。 厳正な審査の結果「奨励賞」として次の1件、 ・伏見 千尋氏(東京大学)「三塔式大型循環流動層の開発 (1)高速高密度運転時の流動特性」が、 「プレゼンテーション賞」 として次の3件 ・Oketch Lamek Onyango氏(阪大院基工)「Analysis of Enhancement Mechanism on Mixing with Baffles by use of Three-Dimensional Streak Visualization」 ・小林 秀樹氏(京大院工)「剪断流下鎖分散系の粘性率の数値計算的解析」 ・齋藤 優子氏(同志社大理工)「粒子の拡散を考慮した超遠心分析による粒子径分布解析の検討」 が受賞と決定致しました。 受賞者の皆様、誠におめでとうございます。 なお、「奨励賞」受賞者には、来年3月末に東京農工大学で開催されます、化学工学会第76年会時の粒子・流体プロセス部会総会にて、授賞式を執り行いますとともに、年会内の本部会セッションにて受賞者による記念講演(K103)が行われる予定です。 また「プレゼンテーション賞」受賞者には、賞状ならびに賞状立てが、送呈されました (文責 横浜国立大学 上ノ山 周) |