2010年度　技術賞　受賞者一覧

2010年度

厳正な審査の結果、下記の２件が、受賞と決定致しました。
受賞者の皆様、誠におめでとうございます。
なお、「技術賞」受賞者には、来る3月に東京農工大学で開催されます化学工学会第76年会時の粒子・流体プロセス部会総会にて、授賞式を執り行う予定です。

株式会社IHI　基盤技術研究所 須田 俊之　 「２塔循環流動層褐炭ガス化装置」
株式会社IHI　基盤技術研究所 高藤　誠
株式会社IHI　基盤技術研究所 成川 正広
株式会社IHI 総合開発センター 松澤 克明
株式会社IHI　基盤技術研究所 許　光文
株式会社IHI　基盤技術研究所 藤森 俊郎

≪ 授賞理由 ≫
本技術は、豊富に賦存するが水分等の問題から利用が困難な褐炭等の低質炭を対象に、それを高効率でガス化し合成ガスを製造する装置である。
従来のガス化装置とは異なる２塔循環型流動層ガス化炉というアイデアで工業化に成功し、インドネシアに実機を建設する段階まで至っている。
今後の展開も充分期待できる技術であると評価される。
これらの理由から、本技術は当部会のH22年度技術賞に値すると判断される。


岡山大学 押谷　潤 「廃棄物リサイクルに向けた乾式比重分離技術」
永田エンジニアリング株式会社　 久保 泰雄
永田エンジニアリング株式会社　 図師 達也
平林金属株式会社 平林　実
平林金属株式会社 山川 直也

≪ 授賞理由 ≫
　 本技術は、固気流動層内での物体浮沈現象を乾式比重分離技術として利用するものである。
基礎研究から、最終的な実用装置まで一貫した技術開発により、分離対象物の特徴に応じた乾式連続分離回収装置を完成させた。
本装置は廃棄物の分離装置として実際に稼動して良い性能を示している。
固気流動層を根幹とした同技術は、基礎研究・装置設計・ユーザーの３つが一体となり実用化を果たした点で注目に値するものであり、当部会のH22年度技術賞に相応しい技術であると判断される。


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