アジア国際賞を受賞された韓国KAISTのSung Gap Im先生をお招きし、iCVD (initiated chemical vapor deposition)法による高分子極薄膜の低温・均一製膜と、エレクトロニクス・生体医療などへの新展開をご講演頂きます。また、CVDプロセスの反応工学的解析と、その理解に基づいた合理的なプロセスの設計と開発、更には先端材料・デバイスへの展開を議論します。