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化学工学会 第73年会

講演プログラム（会場・日程別）

Q会場 第2日

最終更新日時：2008-03-13 12:37:12
講演
時刻		講演
番号		講演題目／発表者キーワード分類
番号		受理
番号
材料・界面
(9:00〜10:00)　(座長 新戸浩幸)
9:00〜 9:20Q201水溶液中での付着力におけるイオンの水和力および電場の影響
(同志社大工) ○(学)前山 大樹・島村 佳佑・(学)岡本 智・(正)土屋 活美・(正)森 康維		adhesion
AFM
hydration
12-a438
9:20〜 9:40Q202SiCナノ粒子の化学的表面修飾と水中分散安定性の制御
(東農工大BASE) ○(正)飯島 志行・(正)神谷 秀博		SiC nanoparticles
surface modification
radical initiators
12-a489
9:40〜 10:00Q203気液および固液界面における棒状アラゴナイト粒子の析出
(岡山大院自) ○(学)河野 遼・(正)吉田 幹生・(正)後藤 邦彰・(正)押谷 潤		Aragonite
Air/water interface
Rod-shaped particle
12-a556
(10:00〜11:00)　(座長 塩井章久)
10:00〜 10:20Q204DNA界面活性剤機能化界面によるDNAの塩基配列選択的抽出
(九大院工) 細木 卓也・(正)後藤 雅宏・(神戸大院工) ○(正)丸山 達生		DNA-surfactant
microemulsion
molecular recognition
12-a682
10:20〜 10:40Q205相互貫入ジャングルジム型配位ナノ空間における吸着誘起構造転移の自由エネルギー解析
(京大工) ○(学)杉山 隼人・(正)渡邉 哲・(正)田中 秀樹・(正)宮原 稔		Coordination polymer
Gating process
Free energy
12-a698
10:40〜 11:00Q206水溶液中の固体表面間の摩擦力・磨耗の原子間力顕微鏡を用いた評価
(京大院工) ○(学)寺本 直史・vakarelski I・(正)新戸 浩幸・(正)東谷 公		AFM
CMP
wear
12-a834
(11:00〜12:00)　(座長 森康雄)
11:00〜 11:20Q207懸濁条件が有機結晶粒子群の成長速度へ与える影響とその評価
(東農工大院工) ○(学)山根 庸平・(正)松岡 正邦・(東農工大院BASE) (正)滝山 博志		organic crystallization
crystal growth rate
growth rate enhancement
12-g98
11:20〜 11:40Q208非溶媒添加晶析での変調操作が多形および粒径分布に及ぼす影響
(東農工大院工) ○(学)田口 美岐・(正)松岡 正邦・(東農工大院BASE) (正)滝山 博志		anti-solvent crystallization
modulated operation
crystal size distribution
12-g100
11:40〜 12:00Q209超音波照射が結晶品質に及ぼす影響
(早大理工) ○(正)平沢 泉・(正)黒谷 正博・(学)海老原 聡美・(学)小寺 孝憲		超音波照射
一次核化
晶析
12-g117
講演プログラム
化学工学会 第73年会
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Most recent update: 2008-03-13 12:37:12
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