化学工学会-SCEJ

化学工学会 第72年会

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5) 反応工学

5-e. 反応装置

最終更新日時：2007-02-13 11:06:17

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ているキーワード		キーワード受理件数
PLA2件
Chemical reactor1件

受理
番号		講演題目／発表者キーワード受理日時
172ポリ乳酸合成プロセスにおける光学純度低下の抑制
(日立製作所) ○(正)上川 将行・(正)松尾 俊明・(日立プラントテクノロジー) 岡本 成恭		PLA
lactide
Thin-Film
11/24
15:49:35
184ポリ乳酸の二段階連続重合
(日立・電開研) ○(正)松尾 俊明・(正)上川 将行・(HPT・産化事) 岡本 成恭		PLA
Two-step Polymerization
Thermal Decomposition
11/24
16:25:15
728連続処理型マイクロ波応用化学反応装置の開発
(日立機械研) ○(正)松澤 光宏・窪田 哲男・(正)富樫 盛典・(日立プラントテクノロジー) (正)末松 孝章		Microwave
Flow processing
Chemical reactor
11/27
20:12:14
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