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CVD反応分科会 研究会開催のお知らせ


CVD反応分科会第6回講演会
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「ドライプロセス,気相環境における微粒子の生成,処理,影響」

講 師
広島大学 大学院工学研究科 化学工学専攻 教授 島田 学 氏

講演概要
 ガス相における微粒子の生成,輸送,処理に対する理解は,薄膜合成やエッチングなどのドライプロセスでのコンタミネーション・製造阻害の抑制と,材料ナノ粒子の気相精密合成の両方に関連して重要です.本講演では,微粒子の発生,表面処理,輸送,沈着・堆積や粒子汚染の影響の評価について,材料製造のシチュエーションを中心に大気環境,生体の場も含めて紹介します.

主 催 : 公益社団法人 化学工学会 反応工学部会 CVD反応分科会
共 催 : CVD研究会
日 時 : 2018年6月29日(金) 16:30〜18:00
会 場 : 東京大学 本郷キャンパス 工学部4号館3階42講義室(419号室)
参加費 : 無料
申込方法: 「Web参加登録ページ」 より必要事項を記入してお申込み下さい。
上記サイトにアクセスできない場合には,(1)氏名,(2)勤務先(所属),(3)連絡先E-mailを明記の上, 電子メールにてcvd@scej.orgまでお申込み下さい。
(ただし,定員(80名)になり次第締め切ります。)

問い合わせ先:
 化学工学会反応工学部会CVD反応分科会 cvd@scej.org

 
会場案内図:http://www.u-tokyo.ac.jp/campusmap/cam01_04_05_j.html
アクセスマップ:http://www.u-tokyo.ac.jp/campusmap/map01_02_j.html
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