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CVD反応分科会 研究会開催のお知らせ

化学工学会CVD反応分科会 第36回シンポジウム「ワイドバンドギャップ新材料の開拓」

主催 化学工学会 反応工学部会 CVD 反応分科会
共催 CVD 研究会,Cat-CVD研究会
日程 2022年7月1日(金) 13:00〜18:00
会場 オンライン(Zoom)
参加形態 リアルタイム参加
参加費(税込) 化学工学会 CVD反応分科会法人賛助会員(無料), 化学工学会 CVD反応分科会個人会員(2,000円), 化学工学会 反応工学部会会員(3,000円),化学工学会会員(4,000円), CVD研究会会員(4,000円),Cat-CVD研究会会員(4,000円), 非会員(10,000円),学生(無料)
申込方法 https://cvd-hannoubunkakai.doorkeeper.jp/events/136606よりお申し込み下さい.また,doorkeeper.jp ドメインからのメールを受信可能としておいてください.
アクセスできない場合には,(1)氏名,(2)所属,(3)連絡先E-mail,(4)参加資格(所属学会等)を明記の上,cvd@scej.orgまでメールにてお申し込み下さい.
申込締切 6月27日(月)正午 厳守(web開催のため締め切り後の申し込みは一切できません.また,定員300名に達し次第,申し込み受付を終了いたします.)
問い合わせ先 CVD反応分科会事務局 E-mail:cvd@scej.org
注意
  • 参加費はクレジットカードにてお支払いください.
  • 参加者による録画・録音は参加形態によらず一切禁止とします.
  • 講演内容のオンデマンド配信は行いません.
  • 会議URLならびに講演資料は参加申込者にのみ開催日前日にメールにてお送りします.
  • 懇親会は行いません.
開催趣旨

気候変動対策をはじめとしてワイドバンドギャップ半導体の実用化が広がっています.これに連動し,更に効率の良いパワーデバイスを視野に入れて,新たなワイドバンドギャップ材料の開発と開拓が進められています.そこで,本シンポジウムでは,現在と将来のパワーデバイスを展望した上で,研究・開発の進捗により可能性が高まった材料について最先端の動きを紹介し,将来と未来を議論します.併せて,新材料に対するCVD法の可能性についても考えます.

プログラム
12:30 開場
13:00〜13:05 開会挨拶
13:05〜14:05 1.(基調講演)「ワイドバンドギャップ半導体の現状と新材料への期待」

(パワーデバイスイネーブリング協会) 山本 秀和 氏
14:05〜14:45 2.「β-Ga2O3結晶の気相エピタキシャル成長の現状と展望」

1東京農工大学,2大陽日酸(株),3気相成長(株),4(株)ノベルクリスタルテクノロジー,5情報通信研究機構,6大阪公立大学) 熊谷 義直 氏1,池永 和正 氏1,2,石川 真人 氏3,後藤 健 氏1,村上 尚 氏1,町田 英明 氏3,倉又 朗人 氏4,山腰 茂伸 氏4,東脇 正高 氏5,6
14:45〜15:00 休憩
15:00〜15:40 3.「2インチ径ダイヤモンドCVD成長の機構と課題」

1佐賀大学, 2アダマンド並木精密宝石(株)) 嘉数 誠 氏1, 金 聖祐 氏2
15:40〜16:20 4.「窒化アルミニウムの結晶成長とデバイス応用」

(山口大学) 岡田 成仁 氏
16:20〜16:35 休憩
16:35〜17:15 5.「六方晶窒化ホウ素のCVD成長から2.5次元物質科学へ」

(九州大学) 吾郷 浩樹 氏
17:15〜17:55 6.「CVD・ALD用ガリウムプリカーサー」

((株)高純度化学研究所)水谷 文一 氏
17:55〜18:00 閉会挨拶
参加者 73名
シンポジウムオーガナイザー 羽深 等(横浜国立大学)
筑根 敦弘(大陽日酸株式会社)
百瀬 渉(ALDジャパン株式会社)

 

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