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CVD反応分科会奨励賞

  2015年9月9〜11日に開催された(公)化学工学会第47回秋季大会シンポジウム「CVD・ドライプロセス ―構造・機能制御の反応工学―」(当分科会主催)にて発表された27件の講演から,優秀な発表をされた下記2名の若手研究者の方に,CVD反応分科会奨励賞を授与することを決定致しました。本奨励賞の規約につきましては,こちらをご参照ください。

化学工学会反応工学部会CVD反応分科会
平成27年度 奨励賞

学生奨励賞
嶋 紘平(東京大学)
「超高アスペクト比ミクロキャビティを用いたSiC-CVI法のモデリング」

学生奨励賞
山崎 悠平(早稲田大学)
「急速蒸着とその場溶融結晶化による大粒径結晶Si薄膜作製法の開発」


また,奨励賞に選ばれた2件の発表の次に評価の高かった以下2件の発表も,その功績を称えるために次点としてここに掲載します。

佐藤 登(東京大学)
「塩素-ケイ素含化合物を用いたCVDでの下流堆積物生成反応モデルの構築」

大川 朝陽(早稲田大学)
「グラフェンの実用的CVD合成:供給変調による合成時間短縮と大粒径・高被覆率化」


平成26年度 若手奨励賞・学生奨励賞

平成25年度 若手奨励賞・学生奨励賞

平成24年度 若手奨励賞・学生奨励賞

平成23年度 若手奨励賞・学生奨励賞

 

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